在普通玻璃的一个表面镀上一层氧化铟锡的导电膜，就形成了LCD常用的氧化铟锡玻璃，通常简称为ITO玻璃。
基本结构
基板：
常用的基板厚度有1.1mm;0.7mm;0.5mm;0.5mm,0.4mm
根据材料的不同，通常分为钠钙玻璃和硼硅玻璃两种。
钠钙型玻璃
优点：成本低
缺点：含有钠、钾等离子，易产生渗透，影响产品性能
硼硅型玻璃
优点：玻璃硬度高，透过率好
缺点：成本较高
钠钙型玻璃基本成分：
SiO2层：
SiO2层的作用：
主要是防止钠钙型基板中的金属离子扩散渗透到ITO层中，影响ITO层的导电能力。
SiO2层的膜厚：
切割磨边的工艺流程：
磨边类型及规格要求：
通常分为C型和R型两种
倒角的形状及公差：
抛光工艺流程：
用研磨料将玻璃表面磨平，使玻璃表面平整。对于STN型ITO玻璃是必须经过的一道生产流程。
镀膜工艺流程：
镀膜方法：
镀膜的方法有：喷雾法；涂覆法；浸渍法；化学气相沉积法；真空蒸发法；测射法，但目前工业化最有效的方法是磁控测射法。
磁控测射法：
在高真空反应室中充入一定比例的02和Ar的混合气体，在直流高压下，Ar被电离，在电场作用下轰击靶材，使铟和锡以原子和离子形式溅射出来，沉积在基板玻璃表面，同时被氧化，形成氧化铟锡膜。
评价参数
透过率
在波长为550nm的光波照射下，具有SI02阻挡层玻璃的透过率不小于80%，其主要取决于玻璃材料、ITO厚度和折射率。
透过率定义：
透过玻璃的光透量T2与入射光透量T1之比的百分率
Tt=T2/T1X100%
方块电阻：
d为膜厚，I为电流，L1为膜厚在电流方向上的长度，L2为膜层在垂直电流方向的长度，ρ为导电膜的体电阻率。ρ和d可以认为是不变的定值，当L1=L2时，为正方形的膜层，无论方块大小如何，其电阻率为定值ρ/d，这就是方块电阻的定义，即R=ρ/d
平整度
平整度可用h/1表示，意思为在长度为L的范围内，表面最高点与最低点的差值为h。
ITO玻璃基板平整度参数包括：
1、玻璃表面粗糙度；
2、基板表面波纹度；
3、基板翘曲度；
4、基板垂直度‘
5、ITO膜表面粗糙度；
6、ITO玻璃基板、膜厚均匀度。
基板翘曲度
用h/L表示（如图），即翘曲的高度与翘起边的长度之比。
其中要求如下：
1、厚度≥0.7mm的基片玻璃，翘曲度（h/L）≤0.1%
2、厚度≤0.55mm的基片玻璃，翘曲度（h/L）≤0.15%
3、不允许有S形翘曲
基板垂直度：用a/L表示（如图）。用来描述玻璃基板四条边互相垂直的程度。
化学稳定性
ITO镀膜层的耐化学性能应符合表2中技术要求。
a、耐碱性
镀层在温度为60±2℃，浓度为10%的氢氧化钠（分析纯）溶液中浸泡5分钟，ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。
b、耐酸性
在25±2℃，6%盐酸（分析纯）溶液中浸泡2分钟，ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。
c、耐溶剂性能
将镀膜玻璃放入丙酮（分析纯）、无水乙醇（分析纯）中浸泡5分钟后，ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过10%。
热稳定性
在空气中经过30分钟300±5℃（触摸屏用ITO玻璃是在200±5℃）高温后，ITO膜的方阻的变化率小于300%
附着力
用3M交代粘在玻璃表面迅速撕开，ITO层无明显开裂现象。
ITO膜面的判定
浮法方向：
在基板玻璃制造过程中，液态玻璃流动的方向。
主要判定方法
(1)将万用表打至欧姆档，用探针分别测试两个点，如果显示不“1”，则所测试面为ITO膜面。
(2)用方块电阻测试仪测试面电阻，如果显示电阻无穷大，则所测面为非ITO膜面。
(3)通过大角设别：以16X14英寸的玻璃为例。
常见问题
